文献
J-GLOBAL ID:200902141956832254
整理番号:94A0062561
二酸化けい素の遠隔プラズマ活性化化学蒸着のためのHe/O2/SiH4とHe/N2O/SiH4混合ガスのプラズマ化学
Plasma chemistry of He/O2/SiH4 and He/N2O/SiH4 mixtures for remote plasma-activated chemical-vapor deposition of silicon dioxide.
著者 (1件):
KUSHNER M J
(Univ. Illinois, Illinois)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
74
号:
11
ページ:
6538-6553
発行年:
1993年12月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)