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文献
J-GLOBAL ID：200902142125811842
整理番号：01A0398322
超薄(<40nm)Cu膜の膜厚依存電気抵抗率
Thickness dependent electrical resistivity of ultrathin (<40nm) Cu films.
LIU H-D
(Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA)
,
ZHAO Y-P
(Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA)
,
RAMANATH G
(Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA)
,
MURARKA S P
(Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA)
,
WANG G-C
(Rensselaer Polytechnic Inst., NY, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 384 号： 1 ページ： 151-156 発行年： 2001年03月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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