文献
J-GLOBAL ID:200902142128986392
整理番号:02A0698139
Siダイヤフラム構造を利用したポーラスシリコン膜の自己整合形成
Self-Aligned Formation of Porous Silicon Membranes Using Si Diaphragm Structures.
著者 (6件):
KOBAYASHI T
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
OHSAWA J
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
NAGATA S
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
HARA T
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
YAMAGUCHI N
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
,
YAMAGUCHI M
(Toyota Technological Inst., Nagoya, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
41
号:
8B
ページ:
L963-L965
発行年:
2002年08月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)