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文献
J-GLOBAL ID：200902142318212709
整理番号：01A0083806
ガリウムひ素上液相成長SiO2膜の質の最適化
Quality optimization of liquid phase deposition SiO2 films on gallium arsenide.
HOUNG M P
(National Cheng-Kung Univ., Tainan, TWN)
,
WANG Y H
(National Cheng-Kung Univ., Tainan, TWN)
,
HUANG C J
(Fortune Inst. Technol., Kaohsiung, TWN)
,
HUANG S P
(National Cheng-Kung Univ., Tainan, TWN)
,
HORNG J-H
(National Taiwan Ocean Univ., Keelung, TWN)
資料名：
Solid-State Electronics
(Solid-State Electronics)
巻： 44 号： 11 ページ： 1917-1923 発行年： 2000年11月
JST資料番号： H0225A ISSN： 0038-1101 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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