文献
J-GLOBAL ID:200902142532138290
整理番号:99A0369562
テトラメチルシランからのプラズマ支援化学気相蒸着による低誘電率膜
Low dielectric constant films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition from tetramethylsilane.
著者 (2件):
GRILL A
(IBM-Res. Div., New York)
,
PATEL V
(IBM-Res. Div., New York)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
85
号:
6
ページ:
3314-3318
発行年:
1999年03月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)