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文献
J-GLOBAL ID：200902142677671328
整理番号：98A0678188
非晶質シリコン薄膜のニッケル誘起結晶化
Nickel induced crystallization of amorphous silicon thin films.
JIN Z
(Hong Kong Univ. Sci. and Technol., HKG)
,
BHAT G A
(Hong Kong Univ. Sci. and Technol., HKG)
,
YEUNG M
(Hong Kong Univ. Sci. and Technol., HKG)
,
KWOK H S
(Hong Kong Univ. Sci. and Technol., HKG)
,
WONG M
(Hong Kong Univ. Sci. and Technol., HKG)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 84 号： 1 ページ： 194-200 発行年： 1998年07月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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