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文献
J-GLOBAL ID：200902142895328678
整理番号：00A0362951
N2とAr中でのSiCの反応性スパッタリングによって作製したSiCxNy薄膜の構造解析と微細構造観察
Structural analysis and microstructural observation of SiCxNy films prepared by reactive sputtering of SiC in N2 and Ar.
XIAO X-C
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
LI Y-W
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
SONG L-X
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
PENG X-F
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
,
HU X-F
(Shanghai Inst. Ceramics, Chinese Acad. Sci., Shanghai, CHN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 156 号： 1/4 ページ： 155-160 発行年： 2000年02月
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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