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文献
J-GLOBAL ID：200902143280432609
整理番号：96A0498216
193nmリソグラフィー用の新型の単層レジスト
A New Single-Layer Resist for 193-nm Lithography.
NOZAKI K
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
WATANABE K
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
NAMIKI T
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
IGARASHI M
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
KURAMITSU Y
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
YANO E
(Fujitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 35 号： 4B ページ： L528-L530 発行年： 1996年04月15日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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