文献
J-GLOBAL ID:200902143428971105
整理番号:93A0582817
プラズマプロセスによりSiとの界面に形成したAu,Ti薄膜の構造
Structures of Au and Ti thin films formed at the interface with Si by the plasma process.
著者 (3件):
KASHIWAGI K
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
,
SEKIGUCHI H
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
,
MURAYAMA Y
(Toyo Univ., Saitama, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
228
号:
1/2
ページ:
105-108
発行年:
1993年05月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)