文献
J-GLOBAL ID:200902143599308145
整理番号:02A0698103
配向した銅フタロシアニン薄膜に関するすれすれ入射面内X線回折研究
Grazing Incidence In-Plane X-Ray Diffraction Study on Oriented Copper Phthalocyanine Thin Films.
著者 (7件):
OFUJI M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
INABA K
(Rigaku Corp., Tokyo, JPN)
,
OMOTE K
(Rigaku Corp., Tokyo, JPN)
,
HOSHI H
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
TAKANISHI Y
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ISHIKAWA K
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
TAKEZOE H
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
41
号:
8
ページ:
5467-5471
発行年:
2002年08月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)