文献
J-GLOBAL ID:200902143611506187
整理番号:02A0123763
SrOバッファ層を介してSi上にパルスレーザ蒸着したSrRuO3膜の微細構造
Microstructural Investigation of Pulsed-Laser-Deposited SrRuO3 Films on Si with SrO Buffer Layers.
著者 (6件):
CHEN Y
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KOIKE J
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
HIGUCHI T
(SEIKO EPSON Corp., Nagano, JPN)
,
IWASHITA S
(SEIKO EPSON Corp., Nagano, JPN)
,
ISHIDA M
(SEIKO EPSON Corp., Nagano, JPN)
,
SHIMODA T
(SEIKO EPSON Corp., Nagano, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
40
号:
12A
ページ:
L1305-L1307
発行年:
2001年12月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)