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文献
J-GLOBAL ID：200902144218671601
整理番号：01A0650333
誘導結合,進行波駆動,大面積プラズマ源によるフォトレジストエッチングに及ぼすイオンエネルギーの効果
Effect of ion energy on photoresist etching in an inductively coupled, traveling wave driven, large area plasma source.
TAKECHI K
(Univ. California, California)
,
LIEBERMAN M A
(Univ. California, California)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 89 号： 10 ページ： 5318-5321 発行年： 2001年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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