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文献
J-GLOBAL ID：200902144350890533
整理番号：99A0692526
スパッタリングにより液体窒素温度で析出させたニッケル膜の結晶方位及び微細構造
Crystal orientation and microstructure of nickel film deposited at liquid nitrogen temperature by sputtering.
SHIMIZU H
(Niigata Univ., Niigata, JPN)
,
SUZUKI E
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
,
HOSHI Y
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa, JPN)
資料名：
Electrochimica Acta
(Electrochimica Acta)
巻： 44 号： 21/22 ページ： 3933-3944 発行年： 1999年
JST資料番号： B0535B ISSN： 0013-4686 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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