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文献
J-GLOBAL ID：200902144515642661
整理番号：94A0011691
反応性基板に対する銅のCVD化学 Pt(111)面に対するCu(hfac)2とhfacH
Copper CVD Chemistry on a Reactive Substrate: Cu(hfac)2 and hfacH on Pt(111).
PARMETER J E
(Sandia National Lab., New Mexico)
資料名：
Journal of Physical Chemistry
(Journal of Physical Chemistry)
巻： 97 号： 44 ページ： 11530-11541 発行年： 1993年11月04日
JST資料番号： C0334A ISSN： 0022-3654 CODEN： JPCHAX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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