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文献
J-GLOBAL ID：200902144652194900
整理番号：00A1007660
エーロゾル堆積法によりSi膜上に構成したジルコニウムチタン酸鉛厚膜のアクチュエータ特性
Actuation Properties of Lead Zirconate Titanate Thick Films Structured on Si Membrane by the Aerosol Deposition Method.
LEBEDEV M
(A.I.S.T., M.I.T.I., Ibaraki, JPN)
,
AKEDO J
(A.I.S.T., M.I.T.I., Ibaraki, JPN)
,
AKIYAMA Y
(R&D Center RICOH Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 9B ページ： 5600-5603 発行年： 2000年09月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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