文献
J-GLOBAL ID:200902144796810908
整理番号:93A0844538
Cost/Benefit Analysis of Mix- and -Match Lithography for Production of Half-Micron Devices.
著者 (3件):
MALTABES J G
(IBM Technology Products Division, VT)
,
HAKEY M C
(IBM Technology Products Division, VT)
,
LEVINE A L
(Ultratech Stepper, CA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1927
号:
Pt 2
ページ:
814-826
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)