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文献
J-GLOBAL ID：200902144922465367
整理番号：00A0867490
Cu/Si接触系におけるZrN膜の拡散バリア特性
Diffusion barrier properties of ZrN films in the Cu/Si contact systems.
TAKEYAMA M B
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
NOYA A
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SAKANISHI K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18 号： 3 ページ： 1333-1337 発行年： 2000年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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