文献
J-GLOBAL ID:200902144965462299
整理番号:93A0673520
反応性イオンエッチングにおける局所電場効果
Local Electric Field Effect in Reactive Ion Etching.
著者 (2件):
ARDEHALI M
(NEC Corp., Kanagawa)
,
MATSUMOTO H
(NEC Corp., Kanagawa)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
32
号:
6B
ページ:
3029-3034
発行年:
1993年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)