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文献
J-GLOBAL ID：200902145032133673
整理番号：02A0128326
シリカキセロゲル膜の弾性率に及ぼす製造履歴の影響
Effects of processing history on the modulus of silica xerogel films.
JAIN A
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
ROGOJEVIC S
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
GILL W N
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
PLAWSKY J L
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
MATTHEW I
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
TOMOZAWA M
(Rensselaer Polytechnic Inst., New York)
,
SIMONYI E
(IBM, New York)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 90 号： 11 ページ： 5832-5834 発行年： 2001年12月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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