文献
J-GLOBAL ID:200902145170442156
整理番号:94A0043510
Formation of epitaxial Si/CoSi2/Si(100) heterostructures using allotaxy.
著者 (5件):
MANTL S
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
MICHEL I
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
GUGGI D
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
BAY H L
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
,
MESTERS S
(Forschungszentrum Juelich, Juelich, DEU)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
73
ページ:
102-107
発行年:
1993年11月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)