文献
J-GLOBAL ID:200902145343412452
整理番号:97A0720223
アルミニウムおよび酸化アルミニウム表面エッチング中の炭素リッチ膜の析出
Deposition of Carbon-Rich Film during Etching of Aluminum and Aluminum Oxide Surfaces.
著者 (3件):
TONOTANI J
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
SAITO S
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
NISHIMURA E
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
144
号:
6
ページ:
2142-2146
発行年:
1997年06月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)