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文献
J-GLOBAL ID：200902145775852720
整理番号：98A0852192
ArFリソグラフィー用のシクロオレフィン-無水マレイン酸レジストの設計
Design of cycloolefin-maleic anhydride resist for ArF lithography.
JUNG J-C
(Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
,
BOK C-K
(Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
,
BAIK K-H
(Hyundai Electronics Ind. Co., Ltd., Kyoungki-do, KOR)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 3333 号： Pt.1 ページ： 11-25 発行年： 1998年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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