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文献
J-GLOBAL ID：200902145779286797
整理番号：01A0758406
157nmマイクロリソグラフィーのためのふっ素化重合体レジスト材料
Fluoropolymer Resist Materials for 157nm Microlithography.
TRAN H V
(Univ. Texas, TX)
,
HUNG R J
(Univ. Texas, TX)
,
CHIBA T
(Univ. Texas, TX)
,
YAMADA S
(Univ. Texas, TX)
,
SANDERS D P
(California Inst. Technol., CA)
,
CONNOR E F
(California Inst. Technol., CA)
,
GRUBBS R H
(California Inst. Technol., CA)
,
CONLEY W
(SEMATECH, TX)
,
WILLSON C G
(Univ. Texas, TX)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14 号： 4 ページ： 669-674 発行年： 2001年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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