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文献
J-GLOBAL ID：200902146003338041
整理番号：01A0835760
プラズマ増強化学蒸着により作製した超低k誘電体
Ultralow-k dielectrics prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition.
GRILL A
(IBM Res. Div., New York)
,
PATEL V
(IBM Res. Div., New York)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 79 号： 6 ページ： 803-805 発行年： 2001年08月06日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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