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文献
J-GLOBAL ID：200902146027500133
整理番号：02A0754341
太陽電池用窒化シリコンの高密度誘導結合プラズマ化学蒸着
High-density inductively coupled plasma chemical vapor deposition of silicon nitride for solar cell application.
PARM I O
(Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
,
KIM K
(Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
,
LIM D G
(Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
,
LEE J H
(Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
,
HEO J H
(Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
,
KIM J
(Samsung SDI, Suwon, KOR)
,
KIM D S
(Samsung SDI, Suwon, KOR)
,
LEE S H
(Samsung SDI, Suwon, KOR)
,
YI J
(Sungkyunkwan Univ., Suwon, KOR)
資料名：
Solar Energy Materials and Solar Cells
(Solar Energy Materials and Solar Cells)
巻： 74 号： 1/4 ページ： 97-105 発行年： 2002年10月
JST資料番号： D0513C ISSN： 0927-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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