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文献
J-GLOBAL ID：200902146621194433
整理番号：01A1032430
光音響法によるSiイオンを注入したシリコン基板の熱伝導率とアニール特性の研究
Photoacoustic Study on Annealing Behavior of Thermal Conductivity in Si Ion-Implanted Silicon.
高畠信也
(神奈川工科大)
,
小林武
(神奈川工科大)
,
庄善之
(東海大)
,
和泉富雄
(東海大)
資料名：
電子情報通信学会論文誌 C
(IEICE Transactions on Electronics (Japanese Edition))
巻： J84-C 号： 11 ページ： 1100-1105 発行年： 2001年11月01日
JST資料番号： S0623C ISSN： 1345-2827 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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