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文献
J-GLOBAL ID：200902146635855785
整理番号：97A0627293
光熱及び光ルミネセンスヘテロダイン法の結合測定によるシリコン表面下損傷の解析
Analysis of subsurface damage in silicon by a combined photothermal and photoluminescence heterodyne measurement.
GEILER H D
(JenaWave Engineering and Consulting, Jena, DEU)
,
KARGE H
(JenaWave Engineering and Consulting, Jena, DEU)
,
WAGNER M
(JenaWave Engineering and Consulting, Jena, DEU)
,
EHLERT A
(Wacker Siltronic AG, Burghausen, DEU)
,
KERSTAN M
(Wacker Siltronic AG, Burghausen, DEU)
,
HELMREICH D
(Wacker Siltronic AG, Burghausen, DEU)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 81 号： 11 ページ： 7548-7551 発行年： 1997年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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