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文献
J-GLOBAL ID：200902147111200079
整理番号：98A0667088
セレン化処理中のFexSey薄膜の構造と磁気的性質
Structural and magnetic properties of FexSey thin films during their selenization process.
TAKAHASHI T
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
KUNO S
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
HONDA N
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
TAKEMURA Y
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
KAKUNO K
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
SAITO K
(Teikyo Univ. Sci. and Technol., Yamanashi, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 83 号： 11, Pt.2 ページ： 6533-6535 発行年： 1998年06月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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