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文献
J-GLOBAL ID:200902147363997158   整理番号:00A0579748

半導体ナノ構造体製造のためのSR誘起エッチングとOMVPE成長

SR-stimulated etching and OMVPE growth for semiconductor nanostructure fabrication.
著者 (8件):
NONOGAKI Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
HATATE H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
OGA R
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
YAMAMOTO S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
FUJIWARA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
TAKEDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
NODA H
(Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)
URISU T
(Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)

資料名:
Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology  (Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)

巻: B74  号: 1/3  ページ: 7-11  発行年: 2000年05月01日 
JST資料番号: T0553A  ISSN: 0921-5107  資料種別: 逐次刊行物 (A)
発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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