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文献
J-GLOBAL ID：200902147363997158
整理番号：00A0579748
半導体ナノ構造体製造のためのSR誘起エッチングとOMVPE成長
SR-stimulated etching and OMVPE growth for semiconductor nanostructure fabrication.
NONOGAKI Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HATATE H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
OGA R
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
YAMAMOTO S
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
FUJIWARA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKEDA Y
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
NODA H
(Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)
,
URISU T
(Inst. Molecular Sci., Okazaki, JPN)
資料名：
Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology
(Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)
巻： B74 号： 1/3 ページ： 7-11 発行年： 2000年05月01日
JST資料番号： T0553A ISSN： 0921-5107 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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