文献
J-GLOBAL ID:200902147374839198
整理番号:95A0422045
シリコン上のNi-P合金のレーザ誘起選択堆積
Laser-induced selective deposition of Ni-P alloy on silicon.
著者 (4件):
WANG J
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
FEI X
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
YU Z
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
ZHAO G
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
84
号:
4
ページ:
383-389
発行年:
1995年04月
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)