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文献
J-GLOBAL ID：200902147508033780
整理番号：00A0751686
二重ビームエキシマレーザと厚い酸化層部分による大型Si粒の位置制御
Location-Control of Large Si Grains by Dual-Beam Excimer-Laser and Thick Oxide Portion.
ISHIHARA R
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
BURTSEV A
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
,
ALKEMADE P F A
(Delft Univ. Technol., Delft, NLD)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 7A ページ： 3872-3878 発行年： 2000年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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