文献
J-GLOBAL ID:200902147603649594
整理番号:96A0654684
純粋なECWR-SiH4プラズマからのナノ結晶性シリコン薄膜(nc-Si:H)の析出
Deposition of nanocrystalline silicon films(nc-Si:H) from a pure ECWR-SiH4 plasma.
著者 (3件):
SCHEIB M
(Univ. Kaiserslautern, Kaiserslautern, DEU)
,
SCHROEDER B
(Univ. Kaiserslautern, Kaiserslautern, DEU)
,
OECHSNER H
(Univ. Kaiserslautern, Kaiserslautern, DEU)
資料名:
Journal of Non-Crystalline Solids
(Journal of Non-Crystalline Solids)
巻:
198/200
号:
Pt 2
ページ:
895-898
発行年:
1996年05月
JST資料番号:
D0642A
ISSN:
0022-3093
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)