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文献
J-GLOBAL ID：200902147698331430
整理番号：97A0902422
触媒化学蒸着系でNH3分解種を利用したシリコン表面の低温窒化
Low-temperature nitridation of silicon surface using NH3-decomposed species in a catalytic chemical vapor deposition system.
IZUMI A
(JAIST(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.), Ishikawa, JPN)
,
MATSUMURA H
(JAIST(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.), Ishikawa, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 71 号： 10 ページ： 1371-1372 発行年： 1997年09月08日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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