文献
J-GLOBAL ID:200902148187686171
整理番号:93A0573654
反応性マグネトロンスパッタリングにより作製したNbN膜の性質
Properties of NbN Films Prepared by Reactive Magnetron Sputtering.
著者 (2件):
HOTOVY I
(Slovak Technical Univ., Bratislava)
,
HURAN J
(Inst. Electrical Engineering, Slovak Academy of Sciences, Bratislava)
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applied Research
(Physica Status Solidi. A. Applied Research)
巻:
137
号:
1
ページ:
K25-K28
発行年:
1993年05月16日
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
0031-8965
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)