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文献
J-GLOBAL ID：200902148319077358
整理番号：98A0804689
熱酸化したSi(100)基板における低パルスエネルギーエキシマレーザ誘起損傷
Low-Pulse Energy Excimer-Laser-Induced Damage in Thermally Oxidized Si(100) Substrates.
OZAKI Y
(NTT, Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 7 ページ： 3948-3950 発行年： 1998年07月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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