文献
J-GLOBAL ID:200902148394471223
整理番号:02A0355804
フレキシブルフィルム基板を使った大面積水素化非晶質シリコン膜の堆積過程への励起周波数効果
Excitation Frequency Effects on Large-Area Hydrogenated Amorphous Silicon Film Deposition Process Using Flexible Film Substrate.
著者 (5件):
TAKANO A
(Fuji Electric Corp. Res. and Dev., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
WADA T
(Fuji Electric Corp. Res. and Dev., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
YOSHIDA T
(Fuji Electric Corp. Res. and Dev., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
ICHIKAWA Y
(Fuji Electric Corp. Res. and Dev., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
HARASHIMA K
(Fuji Electric Corp. Res. and Dev., Ltd., Kanagawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
41
号:
3B
ページ:
L323-L325
発行年:
2002年03月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)