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文献
J-GLOBAL ID：200902148420983831
整理番号：01A0212498
電子ビームリソグラフィーにおけるレジスト断面プロファイルの自動ドーズ最適化システム
Automatic Dose Optimization System for Resist Cross-Sectional Profile in a Electron Beam Lithography.
HIRAI Y
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
KIKUTA H
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
OKANO M
(Osaka Sci. and Technol. Center, Osaka, JPN)
,
YOTSUYA T
(Osaka Sci. and Technol. Center, Osaka, JPN)
,
YAMAMOTO K
(Nalux Co. Ltd., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 12B ページ： 6831-6835 発行年： 2000年12月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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