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文献
J-GLOBAL ID：200902148490730760
整理番号：00A0720654
真空紫外光を用いたメソ多孔質シリカ膜の光焼成
Photocalcination of Mesoporous Silica Films Using Vacuum Ultraviolet Light.
HOZUMI A
(National Ind. Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN)
,
YOKOGAWA Y
(National Ind. Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN)
,
KAMEYAMA T
(National Ind. Res. Inst. Nagoya, Nagoya, JPN)
,
HIRAKU K
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
SUGIMURA H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
TAKAI O
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
OKIDO M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名：
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻： 12 号： 13 ページ： 985-987 発行年： 2000年07月05日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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