文献
J-GLOBAL ID:200902148554423352
整理番号:97A0770861
低周波数(50Hz)プラズマ化学蒸着を用いたTiNの三次元蒸着
Three-dimensional deposition of TiN film using low frequency(50Hz) plasma chemical vapor deposition.
著者 (6件):
SHIMOZUMA M
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
DATE H
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
IWASAKI T
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
TAGASHIRA H
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
YOSHINO M
(Hokkaido Polytechnic Coll., Otaru, JPN)
,
YOSHIDA K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
15
号:
4
ページ:
1897-1901
発行年:
1997年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)