文献
J-GLOBAL ID:200902148744175959
整理番号:94A0495316
SIMOXのための酸素イオン注入における結晶学的効果
Crystallographic effects in implantation of oxygen for SIMOX.
著者 (5件):
ANC M J
(Ibis Technology Corp., MA)
,
CORDTS B F
(Ibis Technology Corp., MA)
,
ALLEN L P
(Ibis Technology Corp., MA)
,
KRULL W A
(Ibis Technology Corp., MA)
,
GUERRA M A
(Ibis Technology Corp., MA)
資料名:
Proceedings. 1993 IEEE International SOI Conference
(Proceedings. 1993 IEEE International SOI Conference)
ページ:
46-47
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19940472
ISBN:
0-7803-1347-X
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)