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文献
J-GLOBAL ID：200902149095436930
整理番号：93A0598995
メタクリレート重合体を用いた高性能KrF及びArF単層レジストの設計
Designing high performance KrF and ArF single layer resists with methacrylate polymers.
ALLEN R D
(IBM Research Division, CA)
,
WALLRAFF G M
(IBM Research Division, CA)
,
HINSBERG W D
(IBM Research Division, CA)
,
CONLEY W E
(IBM Corp., NY)
,
KUNZ R R
(MIT Lincoln Lab., MA)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 6 号： 4 ページ： 575-591 発行年： 1993年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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