文献
J-GLOBAL ID:200902149277338527
整理番号:02A0692227
超薄高κゲート誘電体を組込んだゲルマニウムMOSキャパシタ
Germanium MOS Capacitors Incorporating Ultrathin High-κ Gate Dielectric.
著者 (5件):
CHUI C O
(Stanford Univ., CA, USA)
,
RAMANATHAN S
(Stanford Univ., CA, USA)
,
TRIPLETT B B
(Stanford Univ., CA, USA)
,
MCINTYRE P C
(Stanford Univ., CA, USA)
,
SARASWAT K C
(Stanford Univ., CA, USA)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
23
号:
8
ページ:
473-475
発行年:
2002年08月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)