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文献
J-GLOBAL ID：200902149361554251
整理番号：01A0114811
フォトリソグラフィによるSiウエハ上へのパターニング
Patterning on Silicon Wafers by Photolithography.
安間守
(静岡県静岡工技セ)
,
佐藤夏夫
(静岡県静岡工技セ)
,
佐藤憲治
(静岡県静岡工技セ)
,
吉岡正行
(静岡県静岡工技セ)
,
長津義之
(静岡県静岡工技セ)
,
横山尚人
(富士セラミックス)
,
浦野秀一
(スターシステム開発)
,
飯田克彦
(駿河精機)
資料名：
静岡県静岡工業技術センター研究報告
(Reports of the Shizuoka Industrial Research Institute of Shizuoka Prefecture)
号： 45 ページ： 11-16 発行年： 2000年10月
JST資料番号： G0604A ISSN： 0916-6572 CODEN： SSSHEX 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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