文献
J-GLOBAL ID:200902150135577700
整理番号:93A0984442
Co/Si(111)膜の磁気的スイッチング,緩和および磁区構造
Magnetic switching, relaxation, and domain structure of a Co/Si(111) film.
著者 (6件):
BAIRD M J
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
BLAND J A C
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
GU E
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
IVES A J R
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
SCHUMANN F O
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
,
HUGHES H P
(Univ. Cambridge, Cambridge, GBR)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
74
号:
9
ページ:
5658-5665
発行年:
1993年11月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)