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文献
J-GLOBAL ID：200902150363725515
整理番号：97A0775306
走査型トンネル顕微鏡リソグラフィーを用いたレジスト過程によるGaAs表面上のナノ加工
Nano-Fabrication on GaAs Surface by Resist Process with Scanning Tunneling Microscope Lithography.
HIRONAKA K
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.-Hokuriku, Ishikawa, JPN)
,
AOKI N
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.-Hokuriku, Ishikawa, JPN)
,
HORI H
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.-Hokuriku, Ishikawa, JPN)
,
YAMADA S
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol.-Hokuriku, Ishikawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 6B ページ： 3839-3843 発行年： 1997年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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