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文献
J-GLOBAL ID：200902150384249772
整理番号：94A0430430
ジシラニル-アミン 窒化けい素のプラズマ増強化学蒸着(PE-CVD)に対する単一前駆体としての構造単位Si-Si-Nを持つ化合物
Disilanyl-amines-Compounds Comprising the Structural Unit Si-Si-N, as Single-Source Precursors for Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition (PE-CVD) of Silicon Nitride.
SCHUH H
(Technischen Univ. Muenchen, Garching)
,
SCHLOSSER T
(Technischen Univ. Muenchen, Garching)
,
BISSINGER P
(Technischen Univ. Muenchen, Garching)
,
SCHMIDBAUR H
(Technischen Univ. Muenchen, Garching)
資料名：
Zeitschrift fuer Anorganische und Allgemeine Chemie
(Zeitschrift fuer Anorganische und Allgemeine Chemie)
巻： 619 号： 8 ページ： 1347-1352 発行年： 1993年08月
JST資料番号： E0429A ISSN： 0044-2313 CODEN： ZAACAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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