文献
J-GLOBAL ID:200902150486715743
整理番号:02A0695885
化学的機械的研磨中の酸化物/ポリシリコン選択性におよぼす非イオン界面活性剤の影響
Effects of Nonionic Surfactants on Oxide-to-Polysilicon Selectivity during Chemical Mechanical Polishing.
著者 (6件):
LEE J-D
(Samsung Electronics Co., Ltd., Kyunggi-Do, KOR)
,
PARK Y-R
(Samsung Electronics Co., Ltd., Kyunggi-Do, KOR)
,
YOON B U
(Samsung Electronics Co., Ltd., Kyunggi-Do, KOR)
,
HAN Y-P
(Samsung Electronics Co., Ltd., Kyunggi-Do, KOR)
,
HAH S R
(Samsung Electronics Co., Ltd., Kyunggi-Do, KOR)
,
MOON J-T
(Samsung Electronics Co., Ltd., Kyunggi-Do, KOR)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
149
号:
8
ページ:
G477-G481
発行年:
2002年08月
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)