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文献
J-GLOBAL ID：200902150575253699
整理番号：97A0775349
パルス気体プラズマによる粒子サイズ分散が小さいナノ結晶性シリコンの作製
Fabrication of Nanocrystalline Silicon with Small Spread of Particle Size by Pulsed Gas Plasma.
IFUKU T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
OTOBE M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ITOH A
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ODA S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 36 号： 6B ページ： 4031-4034 発行年： 1997年06月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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