文献
J-GLOBAL ID:200902151108943254
整理番号:02A0047732
シンクロトロン放射光誘起光化学過程を用いたポリテトラフロロエチレンのアブレーション機構
On the mechanism of polytetrafluoroethylene ablation using a synchrotron radiation-induced photochemical process.
著者 (5件):
NAGAI H
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
INAYOSHI M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HORI M
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
GOTO T
(Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
,
HIRAMATSU M
(Meijo Univ., Nagoya, JPN)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
183
号:
3/4
ページ:
284-289
発行年:
2001年11月28日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)