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文献
J-GLOBAL ID：200902151115724584
整理番号：99A0406011
エキシマレーザを用いたBiSrCaCuO薄膜のマイクロパターン形成
Micropatterning of BiSrCaCuO thin films using excimer laser.
HIGO S
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
HAKURAKU Y
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
SHIMADA Y
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
MINAMIZONO E
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
TADOKORO M
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
,
OGUSHI T
(Kagoshima Univ., Kagoshima, JPN)
資料名：
International Journal of Modern Physics B. Condensed Matter Physics, Statiscal Physics, Applied Physics
(International Journal of Modern Physics B. Condensed Matter Physics, Statiscal Physics, Applied Physics)
巻： 12 号： 32 ページ： 3485-3494 発行年： 1998年12月30日
JST資料番号： T0396A ISSN： 0217-9792 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： シンガポール (SGP) 言語： 英語 (EN)
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